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院校實驗室和工礦企業(yè)實驗室,在進行高、中、低溫CVD工藝,如碳納米管的研制,晶體硅基板鍍膜,金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等實驗時,會經(jīng)常用到管式爐,在進行這些實驗時需要注意以下幾點事項:
1、實驗樣品的安裝和支撐架的熱導率要低,以確保試驗樣品與安裝和支撐架間處于一種絕熱的狀態(tài);
2、檢查高溫真空管式爐的試驗區(qū)內(nèi)有無油氣等易揮發(fā)性物質(zhì)和有氣味的物質(zhì),這類物質(zhì)對試驗的影響必須預先進行確認;
3、冷爐使用時,由于管式爐膛是冷的,須大量吸熱,所以低溫段升溫速率不易過快,各溫度段的升溫速率差別不易太大,設置升溫速率時應充分考慮所燒結(jié)材料的物理化學性質(zhì),以免出現(xiàn)噴料現(xiàn)象,污染爐管。
4、爐溫盡量不要超過額定溫度,以免損壞加熱元件及爐襯。
5、管式爐在溫度試驗測試結(jié)束以后,必須在試驗樣品冷卻到室溫后才能取出樣品,否則會對樣品產(chǎn)生不必要的應力,會對樣品產(chǎn)生不可逆轉(zhuǎn)的影響;
6、為保持管式爐溫區(qū)內(nèi)溫度一致,需要盡可能保證試驗環(huán)境溫度及設備動力電源的波動小,確保試驗樣品不產(chǎn)生熱輻射,不吸收熱量從而保證試驗區(qū)內(nèi)的溫度平穩(wěn)。
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